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清洗机的作业设计原理

硅片清洗机半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。 清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。会导致各种缺陷。蔬菜清洗机设备除电机、轴承等标准件外均采用不锈钢材料制作，完全符合出口食品卫生要求。此外，承德模具超声波清洗机，工业清洗机还可以满足电镀前、热处理前后、产品安装前的清洗作业要求。通常，在一些工作量很大的清洗作业中，工业清洗机表现出很大的优势。其工作原理可以概括为:待清洗工件表面存在的油污、污垢等杂质，在清洗机喷射水的机械力作用下，在热能和金属清洁剂的配合下，逐渐变湿、软化、分离，然后污垢颗粒被清洗液带走，从而达到清洗的目的。

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spce061a单片机的操控软件由主程序和中止效劳程序构成。主程序流程图如图5所示。开机时对体系进行初始化，初始化作业包含cpu时钟挑选、守时器计数时钟设置以及相应 i/o 口和a/d变换器的初始化。其间设置cpu时钟频率为49.152mhz，守时器timera计数时钟选用高的时钟频率，即cpu时钟频率的二分频，选用高时钟频率的原因是高的时钟频率对比简单得到准确的基准频率。